| 去除機理 |
機械微磨削為主,硬度 9(莫氏)> 玻璃 6–7,脆性斷裂+微裂紋 |
化學(xué)-機械協(xié)同研磨:氧化鈰溶解玻璃表面二氧化硅,具有拋光亮化的功能 |
| 對拋光工具的損傷 |
對拋光墊、拋光工具的磨損大 |
軟反應(yīng)層對拋光工具磨損小 |
| 玻璃材質(zhì)適應(yīng)性 |
鈉鈣、硼硅、石英都能拋,但對低堿鋁硅玻璃易出霧狀缺陷 |
對鈉鈣、硼硅最快;對高鋁玻璃仍保持 60 % 以上速率,且霧度低,高純或鐠鈰稀土拋光粉還適用于光學(xué)玻璃拋光 |
| 顆粒形貌 |
α-Al?O? 尖角狀 |
近球團聚體,易分散 |
| 使用粒度 |
0.5um-63um可選粒度多,適用于粗拋、中拋、精拋等 |
粒度多為0.7um-4um,只要用于精拋和鏡面拋光 |